二硫化錫（SnS2）CVD薄膜

六碳科技生產(chǎn)的二硫化錫薄膜采用化學(xué)氣相沉積法（CVD），在多種基底上沉積孤立晶粒、單層或多層薄膜。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光電器件，微電子器件，生物傳感，化學(xué)傳感等領(lǐng)域。

包裝及規(guī)格

10*10mm,15*15mm,20*20mm, 或客戶指定的定制尺寸。
凈化抽真空包裝， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。

典型客戶包括：

MIT、加州理工、斯坦福大學(xué)；
牛津大學(xué)、曼徹斯特大學(xué)；
首爾大學(xué)、韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院（KAIST）、成均館大學(xué)；
東京工業(yè)大學(xué)、村田制作所
清華大學(xué)、北京大學(xué)、中科院半導(dǎo)體所
等世界一流研究機(jī)構(gòu)。

二硫化錫薄膜

二硫化錫孤立晶粒