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硅片鍍膜加工

鍍膜金屬種類: Ti,Cr,Cu,Au,Ag,Pt,Hf,Zr,Ta,W,Sn,Mn,F(xiàn)e,V,Al,
厚度: 1~200nm
基底規(guī)格: 硅片規(guī)格:4英寸,單面拋光,雙面氧化或者無氧化層純硅片 ,(100)晶向, N或者P型,電阻率小于0.1 ohm*cm-1
制作流程: 清洗->電子束蒸發(fā)金屬層或者磁控濺射鍍膜->檢驗(yàn)->包裝。
包裝規(guī)格: 每片4英寸獨(dú)立包裝。
特殊定制: 發(fā)送需求示意圖和需求數(shù)量至sales@6carbon.com,評估成本和難度后進(jìn)行報價。

機(jī)械剝離用鍍金硅片

鍍膜材料: 2nmTi+2nmAu
硅片規(guī)格: 4英寸,單面拋光,雙面氧化 , (100)晶向, 高導(dǎo)電N或者P型可選,電阻率小于0.1 ohm*cm-1。
制作流程: 清洗>電子束蒸發(fā) 2nmTi+1nmAu金屬層->檢驗(yàn)->包裝。
包裝規(guī)格: 每片4英寸獨(dú)立包裝。
特殊定制: 發(fā)送需求示意圖和需求數(shù)量至sales@6carbon.com,評估成本和難度后進(jìn)行報價。

預(yù)沉淀不等距電極硅片

電極規(guī)格: 以10*10mm為基本單元,每個單元里標(biāo)記100個數(shù)字,數(shù)字間隔900um,數(shù)字尺寸50um*50um,線寬10um。
電極材料: 5nm Cr+50nm Au金屬。
硅片規(guī)格: 4英寸,單面拋光,雙面氧化 , (100)晶向, 高導(dǎo)電N或者P型可選,電阻率小于0.1 ohm*cm-1。
制作流程: 涂膠->曝光->顯影->電子束蒸發(fā)金屬層->去膠清洗->檢驗(yàn)->包裝。
包裝規(guī)格: 每片4英寸獨(dú)立包裝。
特殊定制: 發(fā)送需求示意圖和需求數(shù)量至sales@6carbon.com,評估成本和難度后進(jìn)行報價。

數(shù)字標(biāo)記硅片

數(shù)字規(guī)格: 以10*10mm為基本單元,每個單元里標(biāo)記100個數(shù)字,數(shù)字間隔900um,數(shù)字尺寸50um*50um,線寬10um。
標(biāo)記材料: 30nm Cr金屬。
硅片規(guī)格: 4英寸,單面拋光,雙面氧化 , (100)晶向, 高導(dǎo)電N或者P型可選,電阻率小于0.1 ohm*cm-1。
制作流程: 涂膠->曝光->顯影->電子束蒸發(fā)金屬層->去膠清洗->檢驗(yàn)->包裝。
包裝規(guī)格: 每片4英寸獨(dú)立包裝。
特殊定制: 發(fā)送需求示意圖和需求數(shù)量至sales@6carbon.com,評估成本和難度后進(jìn)行報價。



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